Provide optimal industrial AI solutions
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滿足半導(dǎo)體襯底及外延片缺陷檢測需求,兼容多種襯底材料:Si、SiC 、GaN 、 Al?O? 、ZnO、GaAs、InP等
能夠?qū)θ?、坑點(diǎn)、微管、胡蘿卜、堆垛層錯(cuò)、基面錯(cuò)位、臺階聚集等缺陷進(jìn)行檢測和分類
能夠?qū)︻w粒、凹坑、凸起、劃傷、污點(diǎn)、裂紋、PL黑點(diǎn)、PL劃痕、PL晶界等缺陷進(jìn)行檢測和分類
支持2吋、4吋、6吋、8吋晶圓檢測,高產(chǎn)能、高靈敏度
檢測能力* | |
支持產(chǎn)品 | 2吋、 4吋 、6吋、8吋晶圓襯底及外延片; |
產(chǎn)品厚度 | 350um-1500um |
檢測技術(shù) | 多通道檢測技術(shù),包含:明場/暗場結(jié)合、差分干涉檢測、相位檢測、光致發(fā)光檢測 |
產(chǎn)率 | 25WPH@6";>50WPH@4" |
檢測功能* | |
主要檢測SiC/GaN 等化合物半導(dǎo)體襯底及外延片的表面及內(nèi)部缺陷 | |
缺陷類型 | 微管、堆垛層錯(cuò)、基面錯(cuò)位、三角、坑點(diǎn)、胡蘿卜 臺階聚集 顆粒、凹坑、凸起、劃傷、污點(diǎn)、裂紋、PL 黑點(diǎn)、PL 劃痕 PL晶界等缺陷 |
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